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| 2005年8月29日更新 | ||||||||||||||||||
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8月22日号
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| ■特集/シリーズ ナノテクノロジー立国への道 第3弾 | ||||||||||||||||||
| ―ナノテク企業は新しいナノテク・アセスメント手法を確立せよ― ナノテクノロジーの産業化が近づきつつある昨今、産業化への環境整備が着々と進んでいる。ナノテクの安全性研究や国際標準化議論が活発化してきたのは、その代表的な動きである。これらの動きが、ナノテクを市場に投入する前段階としての生産者側の環境整備であるならば、ナノテクの受け手側=市民社会における準備も忘れてはならない。今、産業化に向けた環境整備として最もホットなテーマ、それが「テクノロジー・アセスメント」である。過去には、原子力や遺伝子組み換え作物などで盛んに行われてきたが、ナノテクの登場で学問的にも大変注目されている。新しいナノテクノロジー・アセスメントのあり方をめぐって、社会学、倫理学、法律学、政治学など関係する各方面 の識者たちが様々な意見を寄せている。ナノテク産業化の最終局面にある今だからこそ、産業化を歩む人々にとって避けられないテーマ「ナノテクのアセスメント」の在り方について考えてみたい。 |
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| ■ナノテクキーパーソンインタビュー | ||||||||||||||||||
| ―荏原製作所 上席執行役員 精密・電子事業カンパニー 技術統括部長/ 東京都立大学、クラークソン大学、漢陽大学客員教授 辻村学氏に聞く― |
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| ―平坦化技術は統一的な理論で理解、 すべての選択肢を用意することが必要― 最先端半導体製造プロセスでは、リソグラフィーにおける焦点深度確保のため、配線層の平坦化技術がなくてはならない存在となっている。その平坦化を担ってきたのが、CMP(化学的機械研磨)技術だ。ただし、その平坦化技術も重大な岐路に立っている。Cu(銅)配線の絶縁膜に低誘電率のポーラスLow-k膜が使われるようになれば、配線層の強度低下が懸念されるため、低圧での研磨が必要となってくる。その候補として、さまざまな技術が俎上に上っているが、果 たしてどれが有効なソリューションか。今回は、CMP装置大手の荏原製作所でCMP装置開発部隊を率いる辻村学氏にお話を伺っている。 |
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■短期集中連載/「セミコン・ウェスト2005」レビュー |
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| 〜最新半導体製造ソリューションが続々登場〜 その3 | ||||||||||||||||||
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〜ノベラス・システムズが画期的Wコンタクト配線用ALD装置発表〜
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| ■連載//水素循環型社会を目指す Start Up!! Fuel Cell(19) | ||||||||||||||||||
| KDDI(株) | ||||||||||||||||||
| ー充電器タイプを日立、東芝それぞれと共同開発ー KDDI(株)は、携帯電話向けの次世代電源の候補としてDMFC(Direct Methanol Fuel Cell)に注力している。同社は日立製作所および東芝それぞれとDMFCの開発を進めていたが、2004年度末には電力出力1Wの充電器タイプ品を試作した。05年度からは携帯内蔵タイプの研究開発も進めている。 |
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| ■新連載/発展する英国ナノテク〜高度な基礎研究を生かしバイオ・医療に注力〜 | ||||||||||||||||||
| 第1回 マイクロ・ナノテクノロジーを積極的に支援 | ||||||||||||||||||
| 2005年下期から超少量
白金担持ガス拡散電極のユーザー評価を開始 2004年10月から6回にわけて、英国のナノテクノロジー研究における興味深い動向を本誌で紹介し、基礎研究への大規模な投資、産業界に対する支援政策、および民間の参画を統合的に進めることにより、自国のナノテクノロジーの強化に努める英国政府の取り組みについて報告した。今回から新たに6回にわたり、英国のナノテクに関する最新動向と、ナノテクとバイオサイエンスの融合領域に関する研究を中心に紹介していく。 |
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| ■What's
New --Headline-- |
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| R&D | ||||||||||||||||||
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| ■データファイル | ||||||||||||||||||
| ■News
Flash --Headline-- |
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| ■Information --Headline-- |
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| ■週刊ナノテク「新世代ディスプレイの衝撃〜ナノテクノロジーがフラットパネルを変える〜」 | ||||||||||||||||||
| ーー終了ーー 主催:週刊ナノテク 産業タイムズ社 | ||||||||||||||||||
| ■書籍案内 | ||||||||||||||||||